簡要描述：

日(rì)立高(gāo)新超高分辨(biàn)率場發射掃描電子顯微(wēi)鏡
與現有(yǒu)機(jī)型相比(bǐ)分辨率提(tí)高了20％左右
　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV，Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
　　采用汙染小，高真空樣品(pǐn)倉
　　運用能量過(guò)濾器(選配)🐝，可觀察到多種成分對比度*2

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詳細(xì)介紹

日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯(xiǎn)微鏡SU9000

日(rì)本日立HITACHI超高分辨場(cháng)發射掃(sǎo)描電子顯微(wēi)鏡Regulus係列的詳(xiáng)細介紹

　　沿用"SU8200係列"的(dí)冷場發射電子槍*2

　　采用(yòng)電子束(shù)在Flashing後(hòu)出現的高亮(liàng)度穩(wěn)定(dìng)區域作為穩定觀察的區間，使得低加速電(diàn)壓條(tiáo)件下兼備高分辨觀察(chá)和分析的佳性能

　　與現有機型相比分辨率提高(gāo)了20％左右

　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV，Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)

　　采用汙染小，高真(zhēn)空樣品(pǐn)倉

　　運用能量過濾(lǜ)器(選配)，可(kě)觀察到多種成(chéng)分對比度*2

　　極低(dī)著陸電壓下高分辨(biàn)觀察日立高新(xīn)超高分辨率場發(fā)射(shè)掃(sǎo)描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束(shù)敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體(tǐ)器(qì)件(jiàn)，高分辨成像所設計。

新的電子槍和電子光學(xué)設計提(tí)高了低加(jiā)速電壓性能。

0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）

用(yòng)改良(liáng)的高真空性能和(hé)的電子束(shù)穩(wěn)定性來(lái)實(shí)現高(gāo)效率截麵觀(guān)察。
采用設(shè)計(jì)的Super E x B能量(liáng)過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。

日立科學儀器（）有限公司為您提供日立(lì)高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000的參數(shù)🍎，價格(gé)，型(xíng)號🗦，原理(lǐ)等(děng)信息，日立高新超高分辨(biàn)率場(cháng)發射掃描電(diàn)子(zǐ)顯微鏡SU9000產地為日本，品(pǐn)牌為日立，型號為SU9000，價格為麵議，更(gēng)多(duō)相關信息(xī)可(kě)，公司(sī)客服電話7*24小時為您服務

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