日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷麵(miàn)
加工和平麵研磨功能的混合儀器！

• 日立高新離(lí)子研磨裝(zhuāng)置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混(hùn)合模式帶有兩種(zhǒng)研磨配置(zhì)：
  斷麵加工：將樣品斷麵研(yán)磨光滑，便於(yú)表麵以(yǐ)下結構高分辨成像🔓。
  平(píng)麵研磨
  ：將樣品表(biǎo)麵(miàn)均(jūn)匀研磨(mó)5平方毫米(mǐ)
  ，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品(pǐn)的表麵特性
  。

• 日立高新(xīn)
  離(lí)子研(yán)磨裝(zhuāng)置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的高通量能提高加工(gōng)效率(shuài)：
      與之前的E-3500型相(xiāng)比(bǐ)
  🏹，采用(yòng)新型離子槍設計，減(jiǎn)少了橫截麵研磨(mó)時間🛛。
  （參考加工(gōng)速(sù)率：矽元素為(wéi)300微米/小(xiǎo)
  時 — 加工時間減少了(liǎo)66%。

• 日立高(gāo)新(xīn)離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的(dí)可拆卸樣品台(tái)裝置
  
  ：

  為(wéi)便於樣品設置和定義研磨邊緣😯，可將樣品台裝(zhuāng)
  置拆卸。