日(rì)立ArBlade 5000離子研磨係統能夠實現高產量(liáng)，並製備廣域橫截麵樣品
。

　　離子研磨係統使用通(tōng)過(guò)在表麵上照射氬離子束(shù)引起(qǐ)
的濺射效應來拋光樣品的表麵。樣品預處理係統可以用於(yú)電子和材料等各個(gè)領域的研(yán)發和質量控製(zhì)等。

新推出(chū)的ArBlade 5000具(jù)有混合研(yán)磨功能(néng)
，能夠進行橫截麵研(yán)
磨，是(shì)
日立離子研(yán)磨(mó)係統的 家(jiā)標誌🙏。此功能(néng)使樣品能(néng)夠根(gēn)據所(suǒ)需的目的和應用進行預處(chǔ)
理(lǐ)🔠。

　　與(yǔ)機械拋(pāo)光不同，離子研磨係統處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用於(yú)預處理樣(yàng)

品的離子銑削係統(tǒng)
的應(yīng)用範圍不斷擴大，不僅包括掃描電(diàn)
子顯微(wēi)鏡（SEM），還包括原子力顯微鏡（SPM / AFM）等(děng)。離子銑削(xiāo)
係統應用範圍廣泛，日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵(jiàn)性建議(yì)和改進，並將它們(mén)納入到 新的設計(jì)平台📂。

　　ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍(qiāng)技術設計。這是(shì)一(yī)
種新的氬離子槍
，可以實現了1mm/hr以(yǐ)上的截麵銑削(xiāo)速(sù)度（日立高新的IM4000Plus型號的兩倍）
。新係(xì)統(tǒng)使(shǐ)用戶能夠在比以前更短的時間內準備橫截麵🕖，包括陶瓷和金屬等硬質材料，這往往需要較長的加工時間。

　　此(cǐ)外，日(rì)立高新(xīn)開發了的寬(kuān)區域橫截麵研磨，以實現橫截麵研(yán)磨， 大研(yán)磨寬(kuān)度為8mm，從而可以製備比(bǐ)以(yǐ)往更大的截麵樣品。通過與下一代氬離子槍的協(xié)同(tóng)效應，新的ArBlade 5000可以與市場(cháng)
上可用的任何其他(tā)離子係(xì)統一起製備廣域橫截麵樣(yàng)品。

主要特(tè)點

　　1.能夠進(jìn)行(háng)橫截麵和平麵的混合研磨係統(tǒng)
。

　　2.通過(guò)PLUS II離子槍技術(shù)設(shè)計高速(sù)氬離(lí)子槍實(shí)現1mm/hr或更高的橫(héng)截麵研磨速度。

　　3.通過使用廣域橫截麵研磨，實(shí)現 大寬度達8mm的廣域(yù)加(jiā)工(gōng)
。

　　4.基於(yú)采用LCD觸摸(mō)麵板的控製(zhì)係(xì)統，增強了可操(cāo)作性。