離子研磨係統使用通過在表麵上照射氬離(lí)子束(shù)引起的濺射效應來拋光(guāng)
樣品(pǐn)的表(biǎo)麵。樣品預處理(lǐ)係統可以用(yòng)於(yú)
電子和材料等各(gè)
個領域的研發和質量控製等。

　　此外
，日立高(gāo)新開(kāi)發了的寬區(qū)域橫截麵研磨，以實現橫截麵研磨， 大研磨寬(kuān)度為8mm，從而可以(yǐ)製(zhì)備比以往更大的截麵樣品
。通過與下一代氬離子槍的協同效應
，新(xīn)的ArBlade 5000可以與市場上可用的任何其他離子係統一(yī)起製備廣域橫截麵樣(yàng)品。　　與機(jī)械拋光(guāng)
不同(tóng)，離子研磨係統處理樣品而不會變形或施加機械應(yīng)力
。因此，用於預(yù)
處(chǔ)理樣品的離子銑削係統的應(yīng)用(yòng)範(fàn)圍不斷擴大，不僅包括掃描電(diàn)子顯微鏡（SEM），還包括原子力(lì)顯(xiǎn)
微鏡（SPM / AFM）等。離(lí)
子(zǐ)銑削係統(tǒng)應用範圍廣泛，日立高(gāo)新收集(jí)了用戶在(zài)各種領域提供的關鍵性建議(yì)和改進
，並將它們納入(rù)到 新的設計平台。

　　新(xīn)推出的(dí)
ArBlade 5000具有混合研(yán)
磨功能，能(néng)夠進行(háng)橫截麵研磨，是日立離子(zǐ)研磨係統的 家標誌。此功能使樣品能夠(gòu)根據所需的目的和應(yīng)用(yòng)進行預處理。

　　ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍(qiāng)技術設計。這是一種新的氬離子槍，可以實現(xiàn)了1mm/hr以上(shàng)
的截麵(miàn)銑削速度（日立高新的IM4000Plus型號的兩倍）。新係統使(shǐ)用戶(hù)能夠在比以前更短(duǎn)的時間內準備橫截(jié)麵
，包括陶瓷和(hé)金屬(shǔ)等硬質材(cái)料，這往往需要較長的加(jiā)工(gōng)
時間
。　

主要特點

　　1.能夠進行橫截麵(miàn)和平麵的混合研磨係統。

　　2.通過PLUS II離子(zǐ)槍技術設計高速(sù)氬離子槍實現1mm/hr或更高(gāo)的(dí)橫(héng)截麵研磨速度
。

　　3.通(tōng)過使用廣(guǎng)域橫(héng)截麵研磨(mó)🛼，實現 大寬(kuān)度達8mm的廣域加工(gōng)。

　　4.基於采用(yòng)

LCD觸摸麵(miàn)板的控製係統，增(zēng)強了(liǎo)可操作性。